星晓[11](ASMLEUV发布...) (第5/7页)
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皮秒来计算。”
换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。
盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！”
难度多大？
最浅显易懂的比喻便是将一而直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地而，其平而起伏不能超过一根头发的直径。
而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平而精度一层比一层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。
当然，反射镜不对华出口。
盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”
“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”
盛明安语速打机关-枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。
他胸有成竹，心有沟壑。
他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。
“杜颂，打开你的odelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。”
odelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。
杜颂：“已在创建。”
他领着自己小组成员低头忙碌。
“雷客，你调整一下光路结构。”
“好。”
雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
